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真空冶金熔煉設備的一種。爐體為密閉容器，抽成真空或充以惰性氣體。由爐頂通入的電極和爐底水冷結晶器通電引弧后，產(chǎn)生電弧，借電弧熱量使金屬或合金熔化，并在結晶器內(nèi)凝固。電極由被熔煉的金屬制成的叫“自耗電極真空電弧爐”，如用不熔化的材料作電極的叫“非自耗電極真空電弧爐”。產(chǎn)品中雜質(zhì)少，氣體含量低、鑄錠組織好，具有優(yōu)良的機械和物理性能。適宜于熔煉高熔點金屬、活性金屬、特殊鋼和金屬。微型真空電弧爐由于其使用性能優(yōu)良，整體結構堅定穩(wěn)固、經(jīng)久耐用，是冶煉金屬的一種設施，因此得到了大家的一致...

微型脫脂爐是一種采用加熱方法使工件表面的油脂揮發(fā)和燃燒而除去的機械設備。脫脂爐可與滲碳爐(或氮化爐)等組成聯(lián)合機，利用滲碳爐排出的可燃廢氣作為脫脂爐的熱源。工件經(jīng)脫脂爐后進人滲碳爐，起到清潔表面、增加滲碳能力的作用。微型脫脂爐水垢問題，需要我們進行清洗維護工作。為了保證爐的可靠經(jīng)濟運行，對水垢要及時加以清除。一、脫脂爐機械除垢法：當燃氣加熱爐爐內(nèi)有疏松的水垢和水渣時，停爐后使加熱爐冷卻、放掉爐水，用清水沖洗后，即可用扁鏟、鋼絲刷和機動銑管器進行除垢。這種方法比較簡單，多用于結...

優(yōu)勢：·采用高頻感應加熱系統(tǒng)；·XRF分析用玻璃熔片，AAS和ICP分析用溶液·高精度紅外測溫系統(tǒng)結合PID智能溫度控制；·采用集操作和顯示于一體的觸摸屏人機界面；·PLC智能控制系統(tǒng)，可預存儲5套常用制樣程序；·按預氧化→加熱熔化→擺動搖勻→澆鑄成型→冷卻過程設定好熔樣程序，即可一鍵啟動自動執(zhí)行完成樣?！と廴谶^程自動擺動功能；·有單堝單模，雙堝雙模，四堝四模等多種種可選，制樣速度為：5-10min/批?！︺K金坩堝和成型模具設計有耐熱陶瓷保護架，延長使用時間?！と刍覂?nèi)設計...

馬弗爐的使用方法：1、第一次使用或長期停用后再次使用時應先進行烘爐，溫度200~600°C,時間約4小時。2、使用時爐瞠溫度不得超過最高爐溫，也不要長時間工作在額定溫度以上。3、工作環(huán)境要求無易燃易物品和腐蝕性氣體。4、為確保使用安全，必須加裝地線，并良好接地。5、使用時爐要輕關輕開，以防損壞機件。6、在爐膛內(nèi)放取樣品時，應先關斷電源，并輕拿輕放，以保證安全和避免損壞爐膛。7、為延長產(chǎn)品使用壽命和保證安全，在設備使用結束之后要及時從爐膛內(nèi)取出樣品，退出加熱并關掉電源。

快速退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或?qū)⒈∧まD換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。今天小編給大家講講快速退火爐常見問題及其改進措施：1、退火溫度是否達到規(guī)定溫度。光亮退火爐一般是采取固溶熱處理，也就是人們平常所謂的“退火”，溫度范圍為1040~112...