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簡(jiǎn)要描述:小型晶體生長(zhǎng)爐設(shè)備 是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,是用一定的方法和技術(shù),使單晶體由液態(tài)或氣態(tài)結(jié)晶成長(zhǎng)。由液態(tài)結(jié)晶又可以分成熔體生長(zhǎng)或溶液生長(zhǎng)兩大類。
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小型晶體生長(zhǎng)爐設(shè)備
原則上可以由固態(tài)、液態(tài)(熔體或溶液)或氣態(tài)生長(zhǎng)而得。實(shí)際上人工晶體多半由熔體達(dá)到一定的過(guò)冷或溶液達(dá)到一定的過(guò)飽和而得。晶體生長(zhǎng)是用一定的方法和技術(shù),使單晶體由液態(tài)或氣態(tài)結(jié)晶成長(zhǎng)。由液態(tài)結(jié)晶又可以分成熔體生長(zhǎng)或溶液生長(zhǎng)兩大類。
熔體生長(zhǎng)又分為:
直拉法
此法是由熔體生長(zhǎng)單晶的一項(xiàng)最主要的方法,適用于大尺寸晶體的批量生產(chǎn)。被加熱的坩堝中盛著熔融的料,籽晶桿帶著籽晶由上而下插入熔體,由于固液界面附近的熔體維持一定的過(guò)冷度、熔體沿籽晶結(jié)晶,并隨籽晶的逐漸上升而生長(zhǎng)成棒狀單晶。坩堝可以由高頻感應(yīng)或電阻加熱。半導(dǎo)體鍺、硅、氧化物單晶如釔鋁石榴石、釓鎵石榴石、鈮酸鋰等均用此方法生長(zhǎng)而得。應(yīng)用此方法時(shí)控制晶體品質(zhì)的主要因素是固液界面的溫度梯度、生長(zhǎng)速率、晶轉(zhuǎn)速率以及熔體的流體效應(yīng)等。
區(qū)熔法
小型晶體生長(zhǎng)爐設(shè)備
溶液生長(zhǎng)又分為:
水溶液法
對(duì)于具有負(fù)溫度系數(shù)或其溶解度溫度系數(shù)較小的材料,可以使溶液保持恒溫,并且不斷地從育晶器中移去溶劑而使晶體生長(zhǎng),采用這種辦法結(jié)晶的叫蒸發(fā)法。
助熔劑法
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